純水設(shè)備RO膜化學(xué)清洗的方法介紹
純水設(shè)備膜清洗的條件
1、進(jìn)水和濃水的壓差上升到初始壓差值的15%;
2、產(chǎn)水量降低了10%;
3、透鹽率增加了20%;
在清洗之前確定膜表面的污垢類型,可以根據(jù)SDI測試膜片上殘留物的顏色、粘稠度等對污垢進(jìn)行判別。例如,褐色的殘留物一般為鐵污垢;白色或米色殘留物可能是硅、砂質(zhì)粘土、鈣垢;晶狀體外形殘留物是無機(jī)膠體、鈣垢;生物污垢或有機(jī)污垢除了有氣味外,通常還呈現(xiàn)粘稠狀。
當(dāng)確定了純水設(shè)備膜表面的污染類型后,選擇相應(yīng)的清洗程序,根據(jù)膜污染的程度通常需要交替使用幾種化學(xué)清洗方法,比單獨使用一種清洗方法更加有效。
定期的清洗可以很大程度的恢復(fù)系統(tǒng)性能,對預(yù)防膜元件污染是非常必要的,在化學(xué)清洗之后,將污染物徹底地沖洗出RO系統(tǒng)。純水設(shè)備,實驗室純水設(shè)備, 無錫純水設(shè)備,無錫水處理設(shè)備,無錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。 半導(dǎo)體超純水設(shè)備。
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