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【無錫水處理設(shè)備http://】半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)標準，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

       用兩級反滲透制取

電子工業(yè)超純水處理設(shè)備    采用兩級反滲透主機加EDI

制取電子工業(yè)超純水處理設(shè)備

制備電子工業(yè)用超純水的工藝流程

　電子行業(yè)制備超水的工藝大致分成以下幾種：

　　1、采用離子交換樹脂制備超純水的傳統(tǒng)水處理方式，純水設(shè)備其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→陽床→陰床→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　2、采用反滲透水處理設(shè)備與離子交換設(shè)備進行組合的方式，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→混床（復床）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

　　3、采用反滲透水處理設(shè)備與電去離子（EDI）設(shè)備進行搭配的方式，這是一種制取超純水的最新工藝，也是一種環(huán)保，經(jīng)濟，發(fā)展?jié)摿薮蟮某兯苽涔に?，其基本工藝流程為：原水→沙炭過濾器→精密過濾器→原水箱→反滲透設(shè)備→電去離子（EDI）→純水箱→純水泵→后置精密過濾器→用水點

       采用離子多級離子交換樹脂

制取電子工業(yè)超純水處理    采用反滲透加EDI電去離子

制取電子工業(yè)超純水處理

三種制備電子工業(yè)用超純水的工藝比較

　　 目前制備電子工業(yè)用超純水的工藝基本上是以上三種，純水設(shè)備其余的工藝流程大都是在以上三種基本工藝流程的基礎(chǔ)上進行不同組合搭配衍生而來。現(xiàn)將他們的優(yōu)缺點分別列于下面：

　　1、第一種采用離子交換樹脂其優(yōu)點在于初投資少，占用的地方少，但缺點就是需要經(jīng)常進行離子再生，耗費大量酸堿，而且對環(huán)境有一定的破壞。

　　2、第二種采用反滲透作為預處理再配上離子交換設(shè)備，其特點為初投次比采用離子交換樹脂方式要高，但離子設(shè)備再生周期相對要長，耗費的酸堿比單純采用離子樹脂的方式要少很多。但對環(huán)境還是有一定的破壞性。

　3、第三種采用反滲透作預處理再配上電去離子（EDI）裝置，這是目前制取超純水最經(jīng)濟，最環(huán)保用來制取超純水的工藝，不需要用酸堿進行再生便可連續(xù)制取超純水，對環(huán)境沒什么破壞性。其缺點在于初投資相對以上兩種方式過于昂貴。

       采用多級反滲透

制取電子工業(yè)超純水處理    采用電去離子（EDI）電去離子

制取電子工業(yè)超純水處理

我們公司生產(chǎn)的電子超純水設(shè)備特點

　　 設(shè)備通常由多介質(zhì)過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等構(gòu)成前期預處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床（EDI電除鹽系統(tǒng)）系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、水泵均設(shè)有壓力保護裝置、在線水質(zhì)檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推薦和客戶要求相統(tǒng)一的方法，使設(shè)備與其它同類產(chǎn)品相比較，具有更高的性價比和設(shè)備可靠性。

       采用碳鋼多級離子交換

制取電子工業(yè)超純水處理    還未裝入樹脂的去離子設(shè)備

電子工業(yè)用超純水的應(yīng)用領(lǐng)域

　　 1、半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路；

　　 2、超純材料和超純化學試劑；

　　 3、實驗室和中試車間；

　　 4、汽車、家電表面拋光處理；

　　 5、光電產(chǎn)品；

　　 6、其他高科技精微產(chǎn)品純水設(shè)備，實驗室純水設(shè)備, 無錫純水設(shè)備,無錫水處理設(shè)備，無錫去離子水設(shè)備, 醫(yī)用GMP純化水設(shè)備。 半導體超純水設(shè)備。